Rivestimentu PVD - produttori di rivestimenti prufessiunali; Rivestimentu in polvere, alta lubrificazione, temperatura di ossidazione, rivestimentu sottovuoto, impresa di rivestimentu PVD, bassu coefficiente di attritu, migliurà a durezza di a superficie; Esecuzione squisita, benvenuta à dumandà ~
Cosa hè PVD? Soluzioni à e dumande relative à a tecnulugia di placcatura sottovuoto per u prucessu di placcatura sottovuoto:
Caratteristiche di PVD: A tecnulugia PVD appare in a preparazione di film cù alta durezza, bassu coefficiente di attritu, bona resistenza à l'usura è stabilità chimica.
Panoramica di PVD: PVD hè cunnisciutu ancu cum'è deposizione raziunale di vapore, si riferisce à l'usu di prucessi fisichi per uttene u trasferimentu di materiale, u trasferimentu di atomi o molecule da a fonte à u prucessu superficiale di u substratu.
Applicazione di PVD: finu à avà, a tecnulugia di deposizione di vapore fisica ùn pò micca solu dipositu film metallicu, film in lega, ma pò ancu depositu cumposti, ceramica, semiconduttori, film polimericu, ecc.
A tecnulugia di rivestimentu PVD hè aduprata per u placcatura di u stratu di film, cù alta durezza, alta resistenza à l'usura (bassu coefficiente di attritu), bona resistenza à a corrosione è stabilità chimica, a vita di u film hè più longa; à u listessu tempu, u stratu di film pò migliurà assai u decoru prestazione di u pezzu.
A tecnulugia di rivestimentu PVD hè un metudu di trattamentu di a superficia rispettosu di l'ambiente chì pò ottene veramente un rivestimentu à livellu micronicu senza inquinamentu. Pò priparà vari filmi di metallo unicu (cume alluminiu, titaniu, zirconiu, cromu, ecc.), Film di nitruru (TiN [titaniu], ZrN [zirconiu], CrN, TiAlN), film di carburi (TiC, TiCN), è ossidu filmi (cum'è TiO, ecc.).
A tecnulugia di rivestimentu PVD hè un metudu di trattamentu di a superficia rispettosu di l'ambiente chì pò ottene veramente un rivestimentu à livellu micronicu senza inquinamentu. Pò priparà vari filmi di metallo unicu (cume alluminiu, titaniu, zirconiu, cromu, ecc.), Film di nitruru (TiN [titaniu], ZrN [zirconiu], CrN, TiAlN), film di carburi (TiC, TiCN), è ossidu filmi (cum'è TiO, ecc.).
Ancu se l'usu di a tecnulugia di rivestimentu PVD pò esse placcatu fora di u stratu di film di alta qualità, ma u costu di u prucessu di rivestimentu PVD ùn hè micca veramente elevatu, hè un metudu di trattamentu superficiale assai economicu, cusì in l'ultimi anni, a tecnulugia di rivestimentu PVD hà sviluppatu assai veloce.I revestimentu in PVD hè diventatu a direzzione di sviluppu di u trattamentu di a superficia in l'industria di u hardware.
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