PVD povlak - profesionální vyrobci nátěr?; Prá?kové lakování, vysoké mazání, oxida?ní teplota, vakuové lakování, PVD lakovací spole?nost, nízky koeficient t?ení, zlep?ení tvrdosti povrchu; Vynikající zpracování, vítejte na dotaz ~
PVD je co? ?e?ení otázek souvisejících s technologií vakuového pokovování pro proces vakuového pokovování:
Charakteristika PVD: Technologie PVD se objevuje p?i p?ípravě fólií s vysokou tvrdostí, nízkym koeficientem t?ení, dobrou odolností proti opot?ebení a chemickou stabilitou.
P?ehled PVD: PVD je také známy jako racionální depozice par, ozna?uje pou?ití fyzikálních proces? k dosa?ení p?enosu materiálu, p?enosu atom? nebo molekul ze zdroje na povrchovy proces substrátu.
Aplikace PVD: a? dosud m??e technologie fyzikálního naná?ení par nejen naná?et kovovy film, slitinovy film, ale také naná?et směsny, keramicky, polovodi?ovy, polymerovy film atd.
Technologie PVD potahování se pou?ívá k pokovování filmové vrstvy, s vysokou tvrdostí, vysokou odolností proti opot?ebení (nízky koeficient t?ení), dobrou odolností proti korozi a chemickou stabilitou, ?ivotnost filmu je del?í; Sou?asně m??e vrstva filmu vyrazně zlep?it dekorativní vykon obrobku.
Technologie povlakování PVD je metoda povrchové úpravy ?etrná k ?ivotnímu prost?edí, kterou lze skute?ně získat povlak na mikronové úrovni bez zne?i?tění. M??e p?ipravovat r?zné jednotlivé kovové filmy (jako je hliník, titan, zirkon, chrom atd.), Nitridové filmy (TiN [titan], ZrN [zirkonium], CrN, TiAlN), karbidové filmy (TiC, TiCN) a oxidy filmy (nap?íklad TiO atd.).
Technologie povlakování PVD je metoda povrchové úpravy ?etrná k ?ivotnímu prost?edí, kterou lze skute?ně získat povlak na mikronové úrovni bez zne?i?tění. M??e p?ipravovat r?zné jednotlivé kovové filmy (jako je hliník, titan, zirkon, chrom atd.), Nitridové filmy (TiN [titan], ZrN [zirkonium], CrN, TiAlN), karbidové filmy (TiC, TiCN) a oxidy filmy (nap?íklad TiO atd.).
A?koli pou?ití technologie potahování PVD lze pokovovat z vysoce kvalitní filmové vrstvy, ale náklady na proces potahování PVD nejsou ve skute?nosti vysoké, jedná se o velmi nákladově efektivní metodu povrchové úpravy, tak?e v posledních letech byla vyvinuta technologie potahování PVD velmi rychle. Povlak PVD se stal vyvojovym směrem povrchovych úprav v hardwarovém pr?myslu.
?
?
